粉体行业在线展览
柜式化学机械研磨抛光设备
面议
华沛智同
柜式化学机械研磨抛光设备
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奥比斯柜式化学机械研磨抛光设备简介:
OrbisCMP系统是一款精密设计的立式CMP工具,非常适合用于研发环境,其主要目的或应用是进行具有**分析能力和增强处理性能的试产测试。
奥比斯柜式化学机械研磨抛光设备特点:
多用途处理能力
低成本解决方案-高价值结果
先进的设计配置
灵活的操作使用
一致、可靠的产出
增强的易用性
Qgrind 100
Chiron 250DA
搓擦机
SMAP-Ⅱ
ED16B
GPW/GAWseries
XZM-100
双面研磨/抛光6S、9B、9.6B系列
金相试样磨抛机
MECPOL-PA进口自动磨抛机
GY-XB70下摆机
SiC CMP抛光设备