仪器简介：

多功能的研磨和抛光系统

主要特点：

MULTIPOL 8/10 from ULTRA TEC™是一个多功能的研磨和抛光系统，该系统能够满足工业和研究领域*苛刻的样品制备的要求。主要用于研究和中试方面。通过配置不同的磨盘和附件，让两个工作站采用不同的磨抛方法进行样品制备。

通过特制的底座，灵活的操作臂和驱动，保证了高精度抛光的制备要求。

采用精确控制实现光学级的抛光，摆臂的幅度和转速可自由调节，样品夹持非常方便。

所有与样品接触的部分均可拆卸、清洗，避免污染。抛光盘被固定在主轴上，也可快速拆卸。