1、产品信息   

2、产品规格

定制

3、产品概述

石墨（C）靶材通常用于物理蒸发沉积和磁控溅射等薄膜沉积工艺，主要应用于制备碳薄膜、导电薄膜、光学薄膜和其他高科技领域的产品。由于石墨具有良好的导电性和化学稳定性，因此在这些领域中得到广泛应用。例如，石墨靶材可用于制备导电薄膜、光学涂层、太阳能电池等。此外，石墨靶材还可用于制备显示器件、光电器件和其他高端工业产品。

4、产品用途

高纯度：石墨靶材通常具有高纯度，能够满足各种工艺对材料纯度的要求。

工艺适用性：石墨靶材可用于不同的薄膜沉积工艺，包括物理蒸发沉积和磁控溅射等。

应用领域：石墨靶材在导电薄膜、光学涂层、太阳能电池等领域有广泛的应用。

性能优异：石墨靶材具有良好的导电性和化学稳定性，能够满足高端产品对材料性能的要求。