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半导体腔体光学窗口 AR 镀膜，低污染、耐等离子体

JR-018

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JR-018

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采用高纯致密无机改性AR镀膜体系与抗等离子体强化结构设计，突破传统光学镀膜耐粒子轰击差、易析出污染、制程耐受性弱的行业短板，在实现宽波段超低反射高精度光学性能的同时，兼具半导体级超洁净低污染特性与长期严苛腔体工况稳定性，适配高端半导体设备精密制程需求。

产品介绍

半导体腔体光学窗口AR镀膜是专为刻蚀、沉积、清洗等半导体工艺腔体光学视窗开发的高端功能性抗反射镀膜产品。半导体工艺腔体长期处于等离子体轰击、高能粒子冲击、高温高真空及强腐蚀严苛环境，普通光学镀膜易出现膜层腐蚀、脱落、析晶、污染腔体、透光衰减等问题。本产品采用高纯无机改性镀膜体系，兼具宽波段增透减反、超低析出污染、超强耐等离子体轰击三大核心特性，可稳定适配半导体设备石英光学窗口、监测光路窗口、真空腔体观测窗，保障设备光学监测精度与腔体洁净度，满足半导体高端制程高可靠、高洁净、长寿命使用要求。

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