上海研倍新材料 专业生产金属材料 锆靶（Zr）与铪靶（Hf）

1、产品信息

2、产品规格

样品测试包装：客户指定

样品产品包装：1件 / 真空密封包装

常规产品包装：木箱（内衬珍珠棉）/ 根据用户要求分装

备注：支持圆靶、板靶、方靶、管靶、异形靶等形态定制。尺寸可按客户图纸加工。需存放于干燥、无腐蚀性气体环境中。

3、产品概述

锆靶（Zr）与铪靶（Hf）均为用于物理气相沉积（PVD）、磁控溅射、离子束溅射及电子束蒸发等镀膜工艺的高纯度金属靶材。两者同属IVB族元素，化学性质相似，但在核性能、熔点及具体应用领域上各有侧重。锆靶的核心竞争力在于低热中子吸收截面、优异的耐腐蚀性和适中的价格，广泛应用于半导体阻挡层、光学镀膜及装饰涂层；铪靶的核心竞争力在于极高的热中子捕获截面、超高熔点（2233℃）及优异的热稳定性，是半导体高κ介质层、核工业控制棒材料及高温光学涂层的关键材料。锆靶执行ASTM B551、GB/T 8769-2010、YS/T 1029-2015等标准。锆密度约6.49-6.51 g/cm³，熔点约1852℃，沸点约4377℃。锆呈浅灰色，外观似钢，有光泽，可溶于氢氟酸和王水。纯度常见规格包括99.5%（2N5）、99.6%、99.9%（3N）及99.95%等。铪靶执行相关行业标准。铪是一种带光泽的银灰色过渡金属，密度约13.31 g/cm³，熔点约2233℃，沸点约4603℃。铪不与稀盐酸、稀硫酸和强碱溶液作用，但可溶于氢氟酸和王水。纯度常见规格包括99.9%（3N）、99.95%（3N5）及99.99%（4N）等。

4、产品用途

锆靶与铪靶凭借各自独特的性能优势，在半导体、光学镀膜、核工业及新能源等领域扮演着关键材料角色。

锆靶（Zr Target）应用领域：

半导体与电子工业：用于90nm以下制程的Cu互连阻挡层（如Ta/Zr叠层）、DRAM电容介质层，广泛应用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜等领域。

光学镀膜：制备ZrO₂增透膜（折射率≈2.1@550nm），用于相机镜头、AR玻璃等光学器件。

装饰涂层：通过反应溅射生成彩色氮化锆（ZrN，金色），用于高端手表、卫浴五金等装饰性镀膜。作为工具镀可延长刀具、钻头等工具5-8倍使用寿命。

新能源与医疗：用于固态电池电解质（LLZO）沉积、PEM电解槽防腐涂层，以及骨科植入物表面ZrO梯度涂层，提升骨整合性和耐腐蚀性。

铪靶（Hf Target）应用领域：
半导体行业：用于制备氧化铪（HfO₂）高κ栅极介质薄膜，用于先进制程电子器件的制备。高纯度铪靶材在微电子、显示器、存储器等产业广泛应用。

光学涂层：用于制备具有高热稳定性和优异光学性能的涂层，如反射镜、滤光片等。

核工业：铪具有极高的热中子捕获截面，大量用于原子能反应堆控制棒材料。

新能源与电子器件：用于制备太阳能电池的各种层（透明导电层、光吸收层等），以及传感器、显示器件等功能性薄膜。