光刻胶高温烘箱厂家推荐——认准：上海简户仪器

光刻胶高温烘箱｜高温段光刻胶坚膜固化专用设备

产品介绍

光刻胶高温烘箱针对需要较高固化温度的光刻胶、PSPI 光敏聚酰亚胺胶开发，满足高温坚膜、深度固化工艺，区别于普通低温烘箱，可稳定长时间运行高温工况，用于去除光刻胶高沸点溶剂，完成胶层充分交联，保障光刻胶耐蚀刻性能，适配晶圆、基板、玻璃、面板工件高温烘烤制程。

产地

产地：中国上海，上海简户仪器设备有限公司原厂研发生产，整机国内组装，出厂经过高温满载均匀性实测。

产品特点

1、碳化硅加热组件，耐高温抗老化，长期高温运行温场稳定； 2、多段程控温控，支持升温‑保温‑降温整套固化曲线编辑存储； 3、SUS316L 全满焊镜面内胆，耐高温耐腐蚀，不易析出颗粒物； 4、可选高纯氮气置换系统，抑制高温下光刻胶氧化发黄； 5、完备安全防护，超温切断加热、门体联锁、过热报警； 6、触控人机界面，历史数据存储导出，方便工艺复盘。

应用领域

半导体晶圆高温坚膜、PSPI 光敏聚酰亚胺固化、显示面板光刻胶高温固化、光学基板光刻胶热处理、科研实验室新材料研发、MEMS 器件加工。

参数指标

• 温度范围：室温 + 50℃～450℃

• 温度均匀性：±1℃满载

• 升温速率：1‑20℃/min 可调

• 内胆：SUS316L 镜面不锈钢满焊

• 洁净等级：Class1000，可选 Class100

• 选配：充氮微氧控制≤5ppm、真空功能

• 腔体容积：多规格，支持非标定制

• 电源：AC380V

仪器优点

高温段控温稳定，过冲小；耐高温内胆不易被光刻胶挥发物腐蚀；国产替代进口，大幅降低采购与维保成本；支持实验室小批量与产线大批量两种工况；厂家可提供高温工艺技术指导；全国售后上门服务。

价格

实验室高温标准款：26000 元起；量产高温机型：60000‑320000 元；真空充氮高温定制款价格面议。

创新点

1、高温状态下温场补偿算法，降低高温区温差； 2、废气导流结构，把光刻胶高温挥发溶剂定向排出，减少腔体二次污染； 3、AI 工艺辅助，可根据胶种自动推荐升温固化程序； 4、加热元件寿命优化，减少高温工况更换频次，降低运维成本。

典型用户

MEMS 研发单位、半导体材料企业、面板研究院所、高校微电子实验室。

采购建议

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