粉体行业在线展览
JH-光刻胶高温固化烘箱
面议
简户
JH-光刻胶高温固化烘箱
238
可靠性环境试验箱
1、高温状态动态温场补偿算法,解决高温下腔体温差; 2、废气专项导流结构,把高温挥发物及时排出,避免回凝污染工件; 3、PSPI 光刻胶固化工艺库,内置多套成熟高温固化曲线; 4、加热部件寿命优化,减少高温工况维护频次。
光刻胶高温固化烘箱厂家推荐——认准:上海简户仪器
光刻胶高温固化烘箱,用于光刻胶特别是 PSPI 光敏聚酰亚胺光刻胶的高温深度固化,相比普通烘箱可实现更高工作温度,完成胶层充分交联反应,提升光刻胶耐温、耐蚀刻、绝缘性能。设备兼顾高温性能、腔体洁净度与温控精度,用于晶圆、基板、玻璃、面板工件高温固化制程。
产地:中国上海,上海简户仪器设备有限公司原厂研发生产。
1、高性能耐高温加热组件,长期高温连续运行稳定; 2、多段阶梯固化程序,完整实现升温‑恒温‑降温高温固化工艺; 3、SUS316L 耐高温镜面满焊内胆,抗光刻胶挥发物腐蚀; 4、可选高纯氮气微氧控制,抑制光刻胶高温氧化发黄劣化; 5、无风固化模式,保护胶层不发生偏移; 6、完整数据记录存储,满足产线工艺追溯,多重高温安全联锁。
PSPI 光敏聚酰亚胺光刻胶固化、半导体晶圆高温坚膜、MEMS 器件、显示面板高温固化、新材料科研实验室。
温度范围:RT+50℃~450℃
温度均匀性:±1℃满载高温工况
升温速率:1‑20℃/min 可调
内胆:SUS316L 镜面满焊不锈钢
洁净等级:Class1000,可选 Class100
选配:充氮微氧≤5ppm、真空功能
腔体规格:标准机型齐全,支持非标定制
高温段温场稳定,过冲小;耐高温腔体耐腐蚀;可实现光刻胶深度交联固化;国产替代进口,降低采购维护成本;厂家具备大量 PSPI 胶固化项目经验;上门调试,提供工艺技术支持。
实验室高温固化款:28000 元起;量产高温固化机型:65000‑330000 元;真空充氮高端定制面议。
1、高温状态动态温场补偿算法,解决高温下腔体温差; 2、废气专项导流结构,把高温挥发物及时排出,避免回凝污染工件; 3、PSPI 光刻胶固化工艺库,内置多套成熟高温固化曲线; 4、加热部件寿命优化,减少高温工况维护频次。
半导体材料企业、MEMS 研发单位、面板研究院、高校微电子实验室。
光刻胶高温固化烘箱,找上海简户仪器买,原厂设备,可提供高温满载均匀性检测报告,支持定制。
JH-半导体恒温恒湿箱
JH-光学膜高低温试验箱
JH-盐雾腐蚀试验箱
JH-复合盐雾腐蚀试验箱
JH-冷热冲击试验箱厂家
JR-TAC膜减反2A膜AR膜
JR-111
JR-TAC膜减反3A GARAF膜 多功能光学改性膜 高清显示薄膜
JR-TAC3A减反镀膜膜
JH-miniled 老化箱
JH-miniled 高温高湿箱
JH-Npo 光模块烤箱