粉体行业在线展览
JH-真空烘箱
面议
简户
JH-真空烘箱
300
可靠性环境试验箱
创新点
1、自研动态真空稳压技术,有效解决升温过程中真空度波动问题,全程维持稳定负压环境,保障工艺一致性。
2、真空+无风双效工艺,兼顾除氧、除泡、防尘、恒温多重效果,完美适配高端光刻胶精密固化需求。
3、智能阶梯抽真空程序,可自定义抽气速率与保压时间,避免高速抽气导致的胶层针孔、塌陷问题。
4、搭载真空度、温度双参数实时监测与记录系统,工艺数据全程可追溯,满足半导体行业合规生产要求。
真空烘箱是针对半导体、光电、精密电子行业高端工艺开发的负压密闭热处理设备,核心实现真空环境下的烘干、除泡、除氧、固化、脱水、脱溶剂等工序。区别于普通烘箱,设备可抽取腔体空气形成真空负压环境,彻底杜绝空气氧化、粉尘污染、气泡残留问题,**适配光刻胶、PI聚酰亚胺、精密电子元器件、晶圆、基板等对氧气、杂质极度敏感的物料加工,有效解决光刻胶高温氧化发黄、胶层起泡、固化不均、杂质残留等工艺痛点,广泛适配高端研发与精密量产场景。
产地:中国上海,上海简户仪器设备有限公司原厂自主生产,核心真空组件、温控模块均采用优质品牌配件,整机密封性能、真空稳定性、温控精度经过严格检测,支持半导体行业高标准工艺验证。
1、真空密闭除氧工艺:可快速抽取腔体空气,营造高真空负压环境,有效去除腔体内氧气、水汽与杂质,杜绝光刻胶、精密物料高温氧化、发黄、变质。
2、无氧化均匀加热:真空环境下无空气对流,搭配全域均匀加热技术,温度分布均衡,无局部高温死角,避免物料受热变形、胶层开裂。
3、高密封洁净腔体:SUS316L不锈钢满焊内胆,搭配高强度硅胶密封门体,密封性**,无漏气、无积尘,可维持高洁净真空环境,适配精密半导体工艺。
4、智能精准控温:多段程序PID温控系统,升温、保温、降温曲线自由编辑,控温精度高、稳定性强,支持长时间连续恒温作业。
5、多重安全防护:具备超温保护、真空负压过载保护、门体联锁、漏气报警、断电保护等多重安全机制,保障设备与工件安全。
6、多功能可拓展:可搭配氮气回填、阶梯真空、脉冲抽气、数据追溯、MES对接等功能,适配各类高端精密生产工艺。
半导体光刻胶真空除泡固化、晶圆真空干燥除水汽、PSPI聚酰亚胺胶无氧化固化、光学玻璃精密烘干、FPC柔性线路板脱泡、精密电子元器件干燥、高分子材料真空热处理、高校新材料研发、科研实验室精密试样加工。
- 温度范围:室温+20℃~300℃(可定制400℃高温真空款)
- 温度均匀度:±0.5℃-±1℃(真空满载工况)
- 真空度:常规-0.098MPa,可定制高真空机型
- 内胆材质:SUS316L镜面防腐不锈钢满焊一体成型
- 升温速率:0.5-10℃/min可调,支持慢速升温保护精密工件
- 漏气率:极低负压泄漏,长时间保压稳定
- 可选配置:氮气回填、阶梯抽真空、自动泄压、数据记录、MES对接
- 供电:AC220V/380V
真空无氧化工艺,彻底解决光刻胶、高分子材料氧化发黄、起泡缺陷,大幅提升产品良率;真空环境无粉尘、无对流污染,适配半导体超高洁净工艺要求;控温精准、稳定性强,可实现长时间连续量产作业;设备密封性优异,保压效果好,能耗低、运维成本低;国产源头厂家,性价比远超进口设备,交付快、售后完善;可根据客户工艺需求定制真空度、温度、腔体尺寸与专属功能。
实验室小型真空烘箱:22000元起;工业量产标准真空烘箱:58000-260000元;高温高真空、全自动、充氮定制高端机型价格面议。
1、自研动态真空稳压技术,有效解决升温过程中真空度波动问题,全程维持稳定负压环境,保障工艺一致性。
2、真空+无风双效工艺,兼顾除氧、除泡、防尘、恒温多重效果,**适配高端光刻胶精密固化需求。
3、智能阶梯抽真空程序,可自定义抽气速率与保压时间,避免高速抽气导致的胶层针孔、塌陷问题。
4、搭载真空度、温度双参数实时监测与记录系统,工艺数据全程可追溯,满足半导体行业合规生产要求。
半导体精密制造企业、光电显示企业、光学器件加工厂、高端FPC生产厂商、新材料研发公司、高校及科研院所精密实验室、第三方精密检测机构。
高品质半导体专用真空烘箱,找上海简户仪器买!源头厂家直营,工艺成熟、性能稳定,支持非标定制、工艺方案优化,提供上门安装调试、终身维保、技术赋能全套服务,助力企业精密工艺升级与国产化替代。
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