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四方仪器 原位激光过程气体分析仪(对射式)GasTDL-3100

GasTDL-3100

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四方光电(武汉)仪器有限公司

湖北武汉

产品规格型号
参考报价:

面议

品牌:

四方仪器

型号:

GasTDL-3100

关注度:

251

范围(量程或细度):

≤±1%F.S.

创新点:

采用TDLAS技术,被测气体不受背景气体交叉干扰
原位安装,无需采样预处理系统
响应快速(T90≤1s),可实时反应气体浓度

产品介绍

产品名称:原位激光过程气体分析仪(对射式)

产品型号:GasTDL-3100


原位激光过程气体分析仪(对射式)产品概述

GasTDL-3100原位激光过程气体分析仪是基于可调谐半导体激光吸收光谱技术(TDLAS)的高性能光学分析仪器,采用对射式设计,可用于工业过程气体控制;其响应时间快速,在原位式测量中一般以秒计算,避免采样式测量带来的时间延迟,可在线及时的反应被测气体浓度。


原位激光过程气体分析仪(对射式)产品特性

  • 采用TDLAS技术,被测气体不受背景气体交叉干扰

  • 原位安装,无需采样预处理系统

  • 响应快速(T90≤1s),可实时反应气体浓度

  • 实时在线测量,气体浓度不易失真,测量精度高

  • 在高温、高粉尘、高水分、高腐蚀性、高流速等恶劣测量环境下具有良好的适应性

  • 隔爆防爆设计,安全系数高

  • 构造简洁,无可动元件,无损耗元件,免维护


原位激光过程气体分析仪(对射式)技术参数

性能参数
测量组分H2S、O2、CO、CO2、CH4*
测量原理TDLAS
测试范围

H2S:0 ~ 100ppm,0 ~ 5000ppm

O2:(0 ~ 5)%VOL (可定制100%)

CO:(0 ~ 100)%VOL
CO2:(0 ~ 100)%VOL
CH4:(0 ~ 20)%VOL
精度≤±1%F.S.
重复性≤±1%
量程漂移≤±1%F.S.
分辨率0.01%VOL
响应时间T90≤1s
工作参数
防爆等级Ex db IIC T6 Gb / Ex tb IIIC T80℃ Db
安装方式原位安装
环境温度(-20~ +60)℃
工作电源24V DC,24W
吹扫气体(0.3~ 0.8)MPa工业氮气
接口信号
通讯RS485、RS232
输出模式2路4-20mA输出
3路继电器输出


产品咨询

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