粉体行业在线展览
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深圳森泽工业品有限公司
日本
1万元以下
日本 FUJI Tough‑Plasma
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自由基浓度更高，针对 PP、PE、硅胶、氟塑料等传统难粘接材质，附着力提升效果更加显著，缩短工件处理节拍。
仅需压缩空气和电力即可进行等离子体处理的新产品。
在引入、使用及维护方面，它都是一款注重“易操作性”的装置。
ECU、电子基板、陶瓷基板、ACF、连接器、显示器、触摸屏、电池外壳、总线条、电机、MCU、DC/DC转换器、EV/HV用电池的电极与隔膜、镜头、CF卡、前灯、玻璃窗、树脂玻璃、天气条、安全气囊、医用手术刀、天窗、方向盘以及各种传感器。
仅通过“压缩空气”和“电能”即可实现表面改性，无需氮气或其他特殊气体。
实现了超高密度的等离子体生成，在采用空气进行等离子体处理的方面，达到了行业**的处理速度。
维护工作非常简单，每年只需进行1到2次即可！而消耗品的更换则可由客户自行轻松完成。
| 端喷嘴 | 宽喷嘴 | 开发中 |
|---|---|---|
| 点喷喷嘴 | φ4.5mm | |
| 工艺气体 | 流量 | 空气流量：40L/min |
| 电源 | AC200～240V | |
| 消费电力 | 900W | |
| 尺寸（长×宽×高） | 头部 | 89×83×300mm |
| 控制器 | 590×400×756mm | |
| 操作面板 | 102×330×218mm | |
| 质量 | 头部 | 1.0kg |
| 控制器 | 66kg | |
| 操作面板 | 4.2kg | |
VBL-F / VBL-FU / VBL-FS
DISPER 2.5
SPM-P/SP-P
600 系列
NH 系列
SC-A系列
IMF-500
LBX TYPE M 型
TK-100型
FS LINE/FS LINE 混合型
ATV系列
EML系列
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
FT-391
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
ESC‑500
HS-CF650
Gasboard-2060
等离子化学气相沉积系统-PECVD
