粉体行业在线展览
RDB-FM-Cu-Ta
面议
上海研倍
RDB-FM-Cu-Ta
152
0-150
上海研倍新材料 专业生产金属粉末 Cu-Ta 铜钽合金粉末
1、产品信息
| 货号 | 纯度 | 规格 | 形貌 |
|---|---|---|---|
| RDB-FM-CuTa | 可定制 | 15-53μm / 45-105μm / 53-150μm | 银灰色粉末 |
2、产品规格
样品测试包装:客户指定(<1kg / 真空密封瓶)
样品产品包装:1kg / 真空密封瓶
常规产品包装:5kg / 10kg / 25kg / 50kg
备注:采用双层真空包装,内部充入高纯氩气保护,外部为防潮铝箔袋封装,支持定制包装规格。需存放于干燥、通风、无腐蚀性气体的环境中,避免与空气、水汽接触,远离酸、碱、强氧化剂。
3、产品概述
Cu-Ta(铜-钽)是一种典型的“假合金”复合材料。由于Cu和Ta在固态下几乎不互溶(Ta在Cu中的平衡溶解度<0.01 at.%),且不会形成任何中间金属间化合物。其结构为导电Cu相和难熔Ta相交替混合的复杂构型。这种设计将Cu的高导电导热性与Ta的高熔点、高模量、耐腐蚀和低热膨胀系数有机结合,实现了优异的力学性能和物理性能协同。该粉末核心技术在于成分与工艺的精准调控。Cu-Ta复合材料目前主要采用粉末冶金、剧烈塑性变形和冷喷涂等非平衡加工方法制备。粉末主要适配冷喷涂固态沉积、粉末床熔融、选区激光熔化等增材制造工艺以及热等静压、放电等离子烧结和热机械加工等粉末冶金工艺,是高场脉冲磁体、高性能导体和航空航天部件的关键原料。
4、产品用途
Cu-Ta合金粉末凭借其高强、高导、高热稳定性和优异抗辐照性能的组合、能源核电、电子封装及高端导体等领域扮演着革命性高性能材料。
核能装备与先进反应堆:Cu-10%Ta合金在573K经100 dpa中子辐照后,辐照硬化量仅为5.5%,远低于传统铜合金,满足第四代核反应堆(Gen-IV)对堆芯结构材料和包壳材料的抗辐照要求。
电子封装与电接触材料:微纳米Cu-Ta复合粉可用于半导体器件热沉和散热基板,满足高功率芯片散热与结构强度需求。
高性能导电部件:在轨道交通接触线、电车架空导线、大型发电机转子导线等领域,Cu-Ta材料的高强度(>450 MPa)与高导电(>70% IACS)组合在保证导电率的同时满足了高张力、高耐磨的运行要求。
增材制造(3D打印) :冷喷涂增材制造是*适合Cu-Ta复合材料的3D打印技术之一,粉末床熔化技术的高冷速(10⁵-10⁶ K/s)也可有效抑制Cu和Ta的相分离,实现纳米级Ta颗粒的均匀分散。
RDB-Ir
RDB-Pt
不规则粉体送粉机
小型超声波雾化制粉设备
桌面超声波雾化制粉设备
实验室超声波雾化制粉设备
超声波雾化制粉设备
NUA100-pilot
RDB-FM-FeMnCoCr
RDB-FM-FeCoNiCr
RDB-FM-CrMnFeCoNi
RDB-FM-CoCrNiAl