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技术文章共12760篇

氧化铈抛光液 MYH-COPST 产品详情

氧化铈抛光液 MYH-COPST 产品详情MYH-COPST 是 MYHMICRO（铭衍海）出品的纳米氧化铈水性抛光液，专为光学玻璃、半导体、显示面板、汽车玻璃等硬脆材料超精密平坦化设计，核心优势为高去除速率、高选择比、低损伤、易清洗、稳定性强。一、产品参数基础理化参数· 产品型号：MYH-COPST· 品牌：MYHMICRO· CAS 号：1306-38-3（CeO₂）·&n...

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发表于：2026-04-22 访问量：1458次来源：铭衍海（常州）微电子有限公司
氧化铈抛光液 MYH-COPS10

氧化铈抛光液 MYH-COPS10一、氧化铈抛光液简介氧化铈抛光液（也称纳米氧化铈抛光浆料）是半导体芯片晶圆制造过程中的关键耗材，核心作用是通过化学与机械协同作用的精密抛光，实现晶圆表面的全局均匀平坦化，确保晶圆表面达到后续光刻、沉积等工序所需的理想平整度与洁净度，为芯片高性能发挥奠定基础。精准实现晶圆平坦化，优化表面质量。晶圆抛光是半导体制造中化学机械抛光（CMP）工艺的核心环节，通过氧化铈磨料的化学作...

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发表于：2026-04-22 访问量：709次来源：铭衍海（常州）微电子有限公司
氧化铈抛光液 MYH-COPS40

氧化铈抛光液 MYH-COPS40一、氧化铈抛光液简介氧化铈（CeO₂）抛光液是精密抛光领域的核心耗材，核心作用是通过化学机械抛光（CMP）工艺，对各类材质表面进行精密研磨抛光，实现高平坦化、高洁净度的表面效果，适配多行业精密加工需求。高平坦化抛光，提升表面洁净度。“高平坦化”是行业核心需求，指通过化学与机械作用结合，去除材质表面瑕疵、凹凸不平，使表面达到均匀平整的状态，以实现：提升产品性能：确保精密器件...

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发表于：2026-04-22 访问量：748次来源：铭衍海（常州）微电子有限公司
德国coax阀在燃气轮机设备上的应用

coax电磁同轴阀在燃气轮机设备上的应用燃气轮机分成：重型燃气轮机、轻型燃气轮机和微型燃气轮机。重型燃气轮机主要用于城市电网。轻型燃气轮机主要用于工业发电、船舶发电、管道增压、坦克机车等.微型燃气轮机主要用作于分布式发电。COAX阀门用于双燃料燃气轮机•1、点火阀 MK15； •2、柴油总切断：控制柴油主路开关→VFK 25 DR（三通是为了回收残油）； •3、柴油支路切断阀：1支路VMK 15、...

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发表于：2026-04-22 访问量：1092次来源：大连力迪流体控制技术有限公司
循环跳水，是颗粒力学性能失效引起的吗？

前言随着锂离子电池在新能源汽车领域的应用越来越广泛，其能量密度、循环寿命、安全性和成本等备受关注。在循环过程中，锂离子电池正极活性材料，以高镍三元正极材料为例，在反复发生 Li⁺的嵌入与脱嵌过程中，伴随各向异性的体积变化、微裂纹扩展和相转变。颗粒力学性能失效是引发电芯容量加速衰减的关键诱因之一，如Parkb1等人的研究表明，Mg掺杂可提高NCM622单颗粒的硬度，改善NCM622正极的循环性能，因此，颗粒硬度是影响N...

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发表于：2026-04-21 访问量：1881次来源：元能科技（厦门）有限公司
金属纳米线为何成为科研热门赛道？

作为一维纳米材料的核心分支，金属纳米线凭借尺寸效应带来的独特特性成为科研热点，应用潜力在多领域得到验证。银纳米线因优异的导电透光性，是柔性透明电极理想材料，应用于柔性显示、可穿戴设备科研；氧化锌纳米线因良好的光电特性，助力光电器件、气体传感等前沿科研。此外，铜纳米线以低成本适配柔性电子规模化制备。这些特性让金属纳米线材料打破基础研究与产业应用的壁垒，在电子、能源、传感等多领域展现出不可替代的价值，也成为科研创新的重要...

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发表于：2026-04-21 访问量：1354次来源：江苏先丰纳米材料科技有限公司
氧化硅抛光液 MYH-SOP05

氧化硅抛光液 MYHSOP05一、产品简介MYHSOP05 是铭衍海（MYHMICRO）研发生产的高纯胶体二氧化硅抛光液，属于超精密终抛型 CMP 抛光耗材。产品以5nm 单分散球形纳米 SiO₂为磨料，采用稳定碱性水性体系，经多级纯化、精密分散与颗粒调控工艺制成，专为半导体、光学、显示面板、蓝宝石等材料的纳米级超精密抛光设计。其突出特点是低缺陷、高洁净、高平坦、易清洗，可实现原子级表面光洁度，广泛用于各类硬脆材...

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发表于：2026-04-21 访问量：942次来源：铭衍海（常州）微电子有限公司
从释氧到催化：CaO2纳米颗粒为何备受科研关注

过氧化钙（CaO2）纳米颗粒是近年来材料学与生物医学交叉领域的优质功能材料，具备优异的pH响应性、可控释氧与产生活性氧特性，在温和条件下可缓慢分解生成过氧化氢与氧气，降解产物安全无毒，兼具环境友好与生物相容性优势，为多领域科研课题提供了理想的材料选择。CaO2纳米颗粒独特的缺氧缓解与氧化应激调控能力，使其在肿瘤协同治疗、慢性感染抗菌、缺血组织修复中表现突出，可有效提升光动力、化学动力学等疗法效果。同时，在环境治理领域...

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发表于：2026-04-21 访问量：1325次来源：江苏先丰纳米材料科技有限公司
金刚石抛光液 MYH-DPS200

金刚石抛光液 MYH-DPS200金刚石抛光液简介金刚石抛光液 MYH-DPS200 是以高纯度纳米金刚石微粉为核心磨料，搭配精准配比的分散、润滑、冷却体系制成的精密加工核心耗材，核心作用是通过超精密抛光加工，对硬质合金、陶瓷、高温合金等超硬材料工件表面进行高效磨削与镜面处理，精确控制工件表面粗糙度与平整度，确保精密制造零部件达到理想的表面精度与物理性能。超精密镜面抛光是精密制造行业核心工艺，指通过金刚石...

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发表于：2026-04-21 访问量：815次来源：铭衍海（常州）微电子有限公司
金刚石抛光液 MYH-DPS80

金刚石抛光液 MYH-DPS80产品简介金刚石抛光液 MYH-DPS80 是精密制造核心抛光耗材，以高纯度金刚石微粉为核心磨料，通过精密磨削抛光，精准控制工件表面粗糙度，实现镜面级抛光效果，消除加工划痕、微裂纹等缺陷，保障精密零部件的表面精度与使用性能。产品特点1. 粒度精准：磨粒分级严格、分布窄，纳米级精准去除，抛光无划痕、麻点。2. 高效切削：高纯度金刚石磨料刃口锋利，对超硬材料去...

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发表于：2026-04-21 访问量：1091次来源：铭衍海（常州）微电子有限公司
氧化铝抛光液 MYH-APS08

氧化铝抛光液 MYH-APS08一、氧化铝抛光液简介氧化铝抛光液（也称纳米氧化铝抛光液）是精密加工领域的关键耗材，核心作用是通过精密研磨抛光，去除工件表面细微划痕、提升表面光洁度与平整度，确保工件达到后续加工或使用的理想表面状态，广泛适配多种材质的精密抛光需求。高效提升表面光洁度，优化抛光效果。 “精密抛光”是核心工序，通过氧化铝磨料修整工件表面，去除瑕疵与划痕，实现：提升产品精度：保障工件表面...

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发表于：2026-04-21 访问量：729次来源：铭衍海（常州）微电子有限公司
氧化铝抛光液 MYH-APS80

氧化铝抛光液 MYH-APS80一、产品简介氧化铝抛光液MYH-APS80是高端精密制造核心耗材，通过“物理研磨+化学辅助”，去除工件表面损伤层与毛刺，获得超光滑无缺陷表面，保障工件精度与性能。精准抛光，低损高效。本品核心为“纳米级抛光”，以纳米氧化铝磨料实现原子级修整（Ra达纳米级），可：1. 获得镜面光洁度，满足高端装配需求；2. 减少表面缺陷，延长工件寿命；3. 兼顾...

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发表于：2026-04-21 访问量：730次来源：铭衍海（常州）微电子有限公司
氧化铝抛光液MYH-APS100

氧化铝抛光液MYH-APS100一、产品简介氧化铝抛光液MYH-APS100是光通讯、精密光学等领域精密加工中的关键耗材，核心作用是通过精细抛光，去除工件表面细微划痕、提升表面光洁度与平整度，确保工件达到后续装配或使用的理想精度要求。精细提亮表面，去除细微瑕疵。x“精细抛光”是行业术语，指通过纳米级氧化铝磨料的研磨作用，抚平工件表面微小凸起与划痕，提升表面光泽度和平面度，以实现：提升表面精度：保证工件表面...

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发表于：2026-04-21 访问量：730次来源：铭衍海（常州）微电子有限公司
氧化硅抛光液 MYH-SOP40

氧化硅抛光液 MYH-SOP40一、氧化硅抛光液简介氧化硅抛光液（也称胶态二氧化硅抛光液）是化学机械抛光（CMP）工艺中的核心耗材，核心作用是通过化学腐蚀与机械研磨的协同作用，实现材料表面纳米级平坦化加工，确保抛光工件达到超光滑、低损伤的表面精度要求。精准实现纳米级平坦化，兼顾抛光效率与表面质量。“纳米级平坦化” 是行业核心要求，指通过抛光将材料表面粗糙度控制在纳米级范围，同时实现无划痕、无麻点、无残留的超净表面，以...

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发表于：2026-04-21 访问量：890次来源：铭衍海（常州）微电子有限公司
氧化铝抛光液MYH-APS400

氧化铝抛光液MYH-APS400一、氧化铝抛光液MYH-APS400简介氧化铝抛光液 MYH-APS400 是光通讯器件、精密光学元件及不锈钢精密部件生产中的核心抛光耗材，通过氧化铝磨料的温和精密研磨，高效去除工件表面细微划痕、毛刺、氧化层及加工瑕疵，显著提升表面光洁度、平整度与镜面效果，确保工件满足高精度光学、物理及外观性能要求，保障装配稳定性与使用寿命。二、铭衍海氧化铝抛光液MY...

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发表于：2026-04-21 访问量：721次来源：铭衍海（常州）微电子有限公司
氧化铝抛光液 MYH-APS150

氧化铝抛光液 MYH-APS150一、氧化铝抛光液MYH-APS150简介氧化铝抛光液MYH-APS15是光通讯、精密金属加工等领域的核心耗材，尤其在光纤器件、不锈钢制品精密加工中发挥关键作用，核心作用是通过精密研磨抛光，去除光纤、不锈钢工件表面细微划痕、杂质及损伤层，提升表面光洁度与平整度，确保光纤传输性能、不锈钢产品品质达到行业严苛标准，助力两大领域产品升级提质。精准提升表面精度，实现镜面级抛光。“镜...

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发表于：2026-04-21 访问量：724次来源：铭衍海（常州）微电子有限公司
金刚石抛光液 MYH-DPS500

金刚石抛光液 MYH-DPS500金刚石抛光液简介金刚石抛光液 MYH-DPS500 是铭衍海针对高端精密制造研发的超精细抛光耗材，以高纯度微米级金刚石微粉为核心磨料，搭配定制化复合体系制成，核心作用是对硬质合金、陶瓷、高温合金等超硬难加工材料进行超精密抛光，精准控制表面粗糙度与平面度，实现镜面级表面精度，保障零部件优异物理性能。通过精准可控切削实现纳米级镜面抛光，可达成：1. 消除表面微瑕疵，...

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发表于：2026-04-21 访问量：785次来源：铭衍海（常州）微电子有限公司
氧化硅抛光液 MYH-SOP420

氧化硅抛光液 MYH-SOP420产品简介铭衍海 MYH-SOP420 是半导体制程 CMP 工艺核心抛光耗材，核心为电子级高纯度纳米球形氧化硅磨粒，依托化学机械抛光协同特性，实现硅晶圆、介质层、金属互连层纳米级精密抛光，无损伤、无残留、平整度优异，契合半导体前 / 后道制程严苛标准，亦可兼容光通信器件端面超精密抛光，一液多用适配多场景。通过精准抛光实现：1. 半导体基材无晶格损伤，为后续制程奠...

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发表于：2026-04-21 访问量：808次来源：铭衍海（常州）微电子有限公司
碳化硅抛光液 MYH-SCPS500

碳化硅抛光液 MYH-SCPS500碳化硅抛光液简介碳化硅抛光液 MYH-SCPS500 是第三代半导体碳化硅材料加工的核心精密抛光耗材，通过化学机械协同抛光，实现碳化硅晶片 / 器件表面原子级平坦化，精准控制表面粗糙度与面型精度，消除加工损伤层，保障碳化硅基器件在光电、半导体领域的高性能应用。超净抛光（行业术语）：通过化学腐蚀 + 机械研磨双重作用，去除碳化硅加工产生的刀纹、变质层及亚表面损伤，将表面粗...

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发表于：2026-04-21 访问量：754次来源：铭衍海（常州）微电子有限公司
氧化铝抛光液MYH-APS05

一、产品简介：铭衍海（常州）微电子氧化铝抛光液MYH-APS05 是一款专为半导体、光学及精密金属等高端制造场景研发的酸性氧化铝抛光液，以高纯度 α- 氧化铝为磨料，采用分散技术配制的稳定水性悬浮液。专为化学机械抛光（CMP）工艺设计，通过机械研磨 + 弱化学腐蚀的协同作用，实现低损伤、高效率的超精密表面平坦化处理。二、铭衍海氧化铝抛光液MYH-APS05 产品特点：1.精密粒径控制液...

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发表于：2026-04-21 访问量：968次来源：铭衍海（常州）微电子有限公司

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