粉体行业在线展览
Pindola™卧式多功能炉PLX200
面议
拉普拉斯
Pindola™卧式多功能炉PLX200
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技术参数
晶圆尺寸:8英寸以下
工艺类型:氧化、退火、合金、LPCVD
适用材料:硅、碳化硅
应用领域:功率半导体、光电器件、科研
目前公司核心产品以晶圆段立/卧式氧化,退火,LPCVD,以及生产陶瓷基板钎焊炉,烧结炉为主,应用领域集中在半导体芯片和陶瓷基板相关生产制造。
Bhadra™立式高温退火炉HBA150
Bhadra™立式高温氧化炉HBO150
Pindola™卧式多功能炉PLX200
Bhadra™200系列立式炉
Bhadra™300系列立式炉
Bhadra™科研炉管设备-BHC200
Pindola™卧式预氧化炉
Pindola™链带式烧结炉&氧化炉
Pindola™压力烧结炉HIP600
Pindola™真空钎焊炉LVD400