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Pindola™卧式多功能炉PLX200
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拉普拉斯（广州）半导体科技有限公司
广东
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拉普拉斯
Pindola™卧式多功能炉PLX200
582
技术参数
晶圆尺寸：8英寸以下
工艺类型：氧化、退火、合金、LPCVD
适用材料：硅、碳化硅
应用领域：功率半导体、光电器件、科研
目前公司核心产品以晶圆段立/卧式氧化，退火，LPCVD，以及生产陶瓷基板钎焊炉，烧结炉为主，应用领域集中在半导体芯片和陶瓷基板相关生产制造。
Bhadra™立式高温退火炉HBA150
Bhadra™立式高温氧化炉HBO150
Pindola™卧式多功能炉PLX200
Bhadra™200系列立式炉
Bhadra™300系列立式炉
Bhadra™科研炉管设备-BHC200
Pindola™卧式预氧化炉
Pindola™链带式烧结炉&氧化炉
Pindola™压力烧结炉HIP600
Pindola™真空钎焊炉LVD400
RLY 系列
HTRH，HTRV
管式炉
驰顺TF-1200型旋转管式炉
RTO蓄热式焚烧炉
RLY系列燃油热风炉
OTL1200、KTL1400、KTL1600、KTL1700
OTF-1200X-25-60
略
ZHK-B02123K-200
YCVD-1706
TCGKD203-11/TCGKD204-11/TCGKD415-12TCGKD412-12/TCGKD410-12/T
