粉体行业在线展览
多腔磁控溅射光学镀膜机
面议
汇成真空
多腔磁控溅射光学镀膜机
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射频离子源清洗及后氧化辅助溅射成膜,适用于车载盖板玻璃和3C产品前盖玻璃沉积AR膜,其中AR膜可为普通SiO2+Nb2O5膜系,也可为硬质SiO2+Si3N4膜系。可选在线AF/AS系统,沉积AR+AF/AS膜,AR+DLC+AF/AS膜,兼容2D/3D基材。同时也适用于3C产品后盖颜色膜(含渐变色膜)、NCVM膜的加工。
规格 | |
型号 | HCSO-2550V |
尺寸 | Ф2700mm*H2350mm |
结构 | 三腔室结构(进料室+工艺室+出料室) |
性能 | |
转速 | 10~100RPM(可变) |
进出料室抽速 | 大气压至10Pa≤5min |
工艺室抽速 | 3.0×10-3Pa≤15min |
极限真空度 | 8.0×10-5Pa (成膜室) |
溅射靶材 | Nb,Si,Cr,Al,Ti,In,Nb2O5,ITO,C ... |
主要配置 | |
夹具系统 | 中心旋转公转夹具桶 / 挂板机械结构传动 |
挂板 | Φ2550x H1200 ~ H1800mm 挂板尺寸可客制化调整 |
排气系统 | 低真空泵组 + 高真空泵组 + Polycold |
真空控制系统 | 真空控制器、潘宁及皮拉尼真空计 |
镀膜系统 | DC或MF磁控溅射源+ 等离子体源 + 在线AF/AS蒸发源 |
充气系统 | MFC或APC自动压强控制仪 |
控制系统 | PC+PLC |
应用 | |
光学薄膜应用 | UV截止滤光片、AR、硬质AR膜、硬质膜、HR膜、AS/AF等,兼容2D/3D基材 |
适用波长 | 300nm~780nm |
注:可客制化(数据仅供参考) |
WL系列往复真空泵
ScopeX ASH
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