粉体行业在线展览
定制-TALD
面议
毅睿
定制-TALD
786
热原子层沉积系统(钙钛矿专用)
衬底尺寸和类型
300*400mm基底
3D复杂表面衬底;多孔,通孔,高深宽比(HAR)样品
前驱体管路
4根源管线,*多加载6个前驱体源
4根气管线,*多加载6个气体管路
含O;为氧源,提供臭氧发生器(选配)
工艺温度
室温 至**300°C
基片加载
气动升降,抽拉式装载
沉积材料
SnO3, NiO, TiO2, Ga2O3, Ta2O5, HfO2
大面积一致沉积|覆盖 300 × 400 mm 基片
精准温控系统|室温至 300 °C范围,温度均匀性 ≤±1 °C
面向钙钛矿电池应用|兼容界面层、传输层与封装层等沉积
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
FT-391
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
自动划片机
等离子化学气相沉积系统-PECVD