粉体行业在线展览
Research-cm-dm
30-40万元
超迈光电
Research-cm-dm
154
多靶复合磁控溅射镀膜机,可满足合金膜、单层膜、多层膜、导电膜、非导电膜和反应溅射的需要,具有极高的实用性和通用性(三靶、垂直与共溅射合一、在线清洗基片等),能够提供高水平功能薄膜研制,特别适合于半导体、新能源、磁性材料、储氢材料、二维材料、超硬薄膜、固体润滑薄膜、自洁净薄膜、等领域前沿研究,同时可选配等离子刻蚀功能和辅助镀膜。
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
BTF-1200C-RTP-CVD
自动划片机
FM-W-PDS
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等离子化学气相沉积系统-PECVD
定制-电浆辅助化学气相沉积系统-详情15345079037