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拉普拉斯低压水平氧化退火设备 LOX430
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拉普拉斯低压水平氧化退火设备 LOX430
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设备的应用及特点：
应用
本设备适合156-210mm硅片生产，能帮助客户降低固定资产投入和运营成本。
产品特点
1. 水平放片，管内空间利用率高，不仅能耗低，且具有业内**的产能；
2. 硅片方向与气流方向一致，硅片对气流阻挡小，片内/片间均匀性更优；
3. 自重挤压，减少硅片间间隙，绕扩/绕镀可控；
热场
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超高温退火炉
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