粉体行业在线展览
CPI
面议
CPI
904
适用于2寸、3寸、4寸、6寸、8寸等多种尺寸晶圆的纯化学抛光
夹具可选择搭配不同重量的配重块,适用于不同材料的抛光工艺需求
抛光后粗糙度变化值ΔRa≤±2nm
夹板、夹具、偏心距等可根据客户需求订制
机身小巧,方便拆装
配备远程操作系统
几乎为零的机械作用力实现无橘皮无划痕效应
采用先进防腐材料和结构设计,达整机超强防腐
Qgrind 100
Chiron 250DA
搓擦机
SMAP-Ⅱ
ED16B
GPW/GAWseries
双面研磨/抛光6S、9B、9.6B系列
金相试样磨抛机
MECPOL-PA进口自动磨抛机
SiC CMP抛光设备
GY-XB70下摆机
PG6镜面抛光机