粉体行业在线展览
聚氨酯抛光垫
面议
博来纳润
聚氨酯抛光垫
198
| PUN-50D | PUN-80 | PUP-40 |
| • 内部含有大量微孔,泡孔细密,分布均匀 • 硬度高,去除速率高耐磨性能优异 • 去除速率高,加工平坦度好,Si面Ra在0.08nm以内 | • 由聚氨酯发泡成型、内部含有大量微孔,不含无机粉末 • 硬度高,耐磨性能优异,去除速率高,加工平坦度好 • 适用于硅片、蓝宝石、玻璃的抛光工艺 | • 由聚氨酯发泡成型,内部含有大量微孔 • 硬度高,耐磨性能优异,耐强碱 • 去除速率高,加工表面平坦度好 |
PUN-45 | PUN-88 | PUN-95 |
• 内部充满细小的微孔 | • 由聚氨酯发泡成型,表面大泡孔较少,内里分布着均匀细密的微孔 | • 有聚氨酯发泡成型,表面有少许小泡孔,内里分布着大量细密的微孔 |