粉体行业在线展览
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掩膜版基板
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成都泰美克晶体技术有限公司
四川
面议
泰美克
掩膜版基板
150
终端主流应用于半导体、LCD以及PCB等领域。
| 指标 | 规格 |
|---|---|
| 尺寸 | 3''-6” |
| 粗糙度（Ra） | ≤1nm |
| 总厚度偏差(TTV) | ≤2μm |
| 平整度 | ≤2μm |
| 外观 | 气泡、杂质、凹坑等<1um |
| 平面度(Flatness) | ≤10 N |
| 光洁度(Surface Quality) | 10-5 |
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450
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CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
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