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Ф76.2*5mm
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北京中金研新材料科技有限公司
北京
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钕靶材是一种用于 磁控溅射 、 离子注入 等工艺的材料,主要用于制备磁记录介质、 磁性薄膜 、磁头、磁芯等磁性材料。 钕靶材特征 钕靶材形状: 平面靶、异型定制 钕靶材纯度: 3N 钕靶材尺寸 按图纸加工或其他者定制 我们还可以提供钕颗粒、钕块等 钕靶材制备工艺 原料准备: 将高纯度的钕金属块作为原料。 预处理: 将原料进行预处理,包括清洗、研磨和干燥等。 这一步骤旨在去除杂质和氧化物。
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Ф80*6.35mm
Ф101.6*4mm
Ф76.2*3mm
Ф40*3mm
Ф50.8*6.35mm
Ф80*3.175mm
Ф25.4*6mm
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100-6000
LFP Production Line Solution
SHTC-201
钽镍二碲二粉末-TaNi2Te2
UNHT³ HTV
eyhh-001
VSP-G1
XFWP01
WL-MYZ02
氢氧化镧.