粉体行业在线展览
半自动上蜡机
面议
梦启半导体
半自动上蜡机
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设备优势
◎ 采用固态蜡熔蜡方式,精确、定量滴蜡。
◎ 加热冷却盘内部采用精密加热和自动冷却系统,可精确控制盘面温度。
◎ 采用独立气缸压片方式,精密气压控制,可精准控制蜡厚。
◎ 贴片后的TTV≤5um。
性能参数
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
自动划片机
BTF-1200C-RTP-CVD
Gasboard-2060
Pentagon Qlll
等离子化学气相沉积系统-PECVD
定制-电浆辅助化学气相沉积系统-详情15345079037
HSE系列等离子刻蚀机