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光伏电镀铜曝光机
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光伏电镀铜曝光机
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光伏电镀铜曝光机PEC-MA1101是一款生产HJT电池的掩膜光刻设备，用于生产更细的铜栅替代银浆丝网印刷线路，提高转换效能并降低成本。
铜电镀类似于半导体工艺，其利用金属化铜电极代替原有栅极，实现替代银浆的效果。电镀铜需要先在准备好的 TCO 膜上镀上一层铜金属层，再涂上感光胶，采用曝光、显影处理，然后用电镀工艺加厚种子层，随后去掉掩膜及种子层。镀铜代替银浆在性能、转换效率上提高了 1-2 个百分点，具备较大的优势。
主要技术参数
特征 | 参数 |
型号 | PEC-MA1101 |
曝光均匀性 | ≥97% |
光源 | UVLED（350-450nm） |
曝光能量密度 | 5-100mW/cm2 |
分辨率 | 6μm |
套刻精度 | ±3μm |
掩膜版尺寸 | 9英寸 |
装片规格 | 166mm×166mm 182mm×182mm 210mm×210mm |
TH-F120
BL-GHX-VK
A500
线性压电纳米位移台MF40-25A
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