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全自动接近式掩模光刻机
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苏州中特微电子科技有限公司
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中特微
全自动接近式掩模光刻机
130
主要技术参数
特征 | 参数 | 参数 | 参数 |
型号 | AT-MA6200 | AT-MA8200 | AT-MAC200 |
曝光均匀性 | ≥98% | ≥97% | ≥97% |
光源 | UVLED （350-450nm） | UVLED （350-450nm） | UVLED （350-450nm） |
曝光能量密度 | 10-100mW/cm2 | 10-100mW/cm2 | 10-100mW/cm2 |
分辨率 | 3μm（接近式） 1μm（接触式） | 3μm（接近式） 1μm（接触式） | 3μm（接近式） 1.5μm（接触式） |
正面套刻精度 | ±0.5μm | ±1μm | ±1μm |
背面套刻精度 | ±1μm | ±1.5μm | ±2μm |
TH-F120
BL-GHX-VK
A500
线性压电纳米位移台MF40-25A
InSight 软包电池透射X射线衍射仪
ParticleX TC
SuperSEM N10
SLS-LED-80B
Lyza 3000
在线浊度计
SCI300
