粉体行业在线展览
JPLB-X400A-ITO/ISI 连续镀膜生产线
面议
辰皓真空
JPLB-X400A-ITO/ISI 连续镀膜生产线
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设备特点
成膜好:采用磁控溅射方式,沉积速率快,膜层均匀致密、内应力小;
适用广:适用于多种膜系,工件可选择单面或者双面镀膜
产量大:连续稳定的流水线作业,生产节拍快。产量大;
扩展强:整线为立式结构,基础款为四腔体;可增加扩展腔体满足各种工艺要求。
应用领域
适用于镀制TTO、AZ0等透明导电薄膜,以及单质金属Ti、Ag、Cu、Ni、等材料,主要应用于钙钛矿光伏电池板,平板显示,车载玻璃等产品,成膜均匀性高,膜厚稳定性高,速率稳定性高。
IBF系列等离子抛光机
JJP系列卷绕镀膜机
微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)设备
DH系列多弧离子镀膜机
HCD系列空心阴极离子镀膜机
JPLB-X400A-ITO/ISI 连续镀膜生产线
GCE系列玻璃连续镀膜线
LD系列单端连续芯片镀膜生产线
PQT系列立式/卧式中、高温集热管排气台
SCS系列中温/高温集热管镀膜机
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
FT-391
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
自动划片机
等离子化学气相沉积系统-PECVD
Pentagon Qlll