粉体行业在线展览
ALDER-500PAS(A500PAS)
面议
光驰
ALDER-500PAS(A500PAS)
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特点及优势
小量多种材料的定制设计
工艺温度**400℃
支持低温plasma工艺(可选配)
自动化搬送:基板**8inch*10pcs
工艺材料:SIO₂\Al₂O₃\TIO₂等
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
FT-391
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
自动划片机
等离子化学气相沉积系统-PECVD
Pentagon Qlll