粉体行业在线展览
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A1000PC
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光驰半导体技术（上海）有限公司
上海
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光驰
A1000PC
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| 尺寸 | 宽3220 长4300 高2800mm(亦可定制化) | 沉积薄膜 | Al2O₃，SiO₂，TiO₂ | 等离子体 | ICP |
| 前驱体源 | 4液态 2气体 | 基板 | 平面或三维 | 装载量 | Φ335mm*40pcs |
| 工艺温度 | <130℃ | 薄膜均匀性 | Al2O₃,SiO₂ <±2%, TiO₂<±3% | 装载方式 | 半自动 |
特点及优势
产品特点
在塑料基板上优异的薄膜保形性和附着性
经工业化检验认证的ALD系统设计
正常运行时间和产能
可兼容基板自动化装载
适用于工业4.0的先进控制系统
真正的批量式低温氧化硅沉积工艺
良好的批量式二氧化钛均匀性
可对塑料镜头进行等离子前处理
高装载量的批量式原子层沉积系统
业内常用的量产式设备
已验证的高重复可靠性
A1000PC是面向于工业化大规模生产的原子层沉积系统，低温镀膜设计可以在各种3维基板上沉积高质量光学薄膜。
在塑料基板上优异的薄膜保形性和附着性
经国际认证机构认可的ALD系统设计
正常运行时间和产能
可兼容基板自动化装载
适用于工业4.0的先进控制系统
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
FT-391
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
自动划片机
等离子化学气相沉积系统-PECVD
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