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光伏投影扫描光刻系统 HJT-lithography systems
面议
苏大维格
光伏投影扫描光刻系统 HJT-lithography systems
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针对异质结电池片铜栅线工艺的图形化需求,专门设计了一款投影扫描光刻系统,具有快速光刻、分辨率好、大焦深的特点,采用405nm光纤激光光源,非常适合在光伏专用感光油墨上进行曝光,实现高品质的槽型结构。配置了CCD识别基片纠偏系统,实现30μm对准精度。
该投影扫描光刻模式,采用较低成本的普通掩模版作为图形输入,且具有曝光均匀性与一致性好、工艺窗口大、对基片厚度误差适应性高、便于与前后道设备组线的优点,是光伏图形化的理想解决方案。
* 具体指标因工艺差异有所不同
采用抛光基片,负光刻胶的光刻结果
采用光伏镀铜基片,感光油墨的光刻结果
MiPrinter 连续生长3D微纳打印系统
Multi-μ 3DPrinter 高保真微纳3D打印系统
光伏投影扫描光刻系统 HJT-lithography systems
Vortex 2000
Tornado 3000晶圆全自动光学检测设备
Tornado 2100套刻测量设备
Tornado 2000晶圆全自动光学检测设备
STORM 2000SLH缺陷检测设备
FPD Mask缺陷检测
FlexAligner-R500
FlexAligner-P200&FlexAligner-P350
Nanocrystal 大幅面纳米光刻
TH-F120
BL-GHX-VK
A500
线性压电纳米位移台MF40-25A
InSight 软包电池透射X射线衍射仪
ParticleX TC
SuperSEM N10
SLS-LED-80B
Lyza 3000
在线浊度计
SCI300