粉体行业在线展览
Vortex 2000
面议
苏大维格
Vortex 2000
242
应用场景
针对4、6、8、12寸晶圆、光罩Mask关键尺寸及套刻精度测量。
可同时兼容**12寸晶圆及Mask的CD量测
支持UV、白光照明及光学系统
支持透射光(用于Mask)、反射光量测
光学系统基于Recipe的自动测量
支持灰度阈值、灰度变化率、直线拟合等多种线宽测量方法
多持非线性补偿功能
支持低对比度下的线宽测量
支持通过GDS文件进行快速定位的测量
提供摇杆、专用控制键盘进行平台定位以及常用功能的快捷操作
MiPrinter 连续生长3D微纳打印系统
Multi-μ 3DPrinter 高保真微纳3D打印系统
光伏投影扫描光刻系统 HJT-lithography systems
Vortex 2000
Tornado 3000晶圆全自动光学检测设备
Tornado 2100套刻测量设备
Tornado 2000晶圆全自动光学检测设备
STORM 2000SLH缺陷检测设备
FPD Mask缺陷检测
FlexAligner-R500
FlexAligner-P200&FlexAligner-P350
Nanocrystal 大幅面纳米光刻
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
FT-391
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
Gasboard-2060
自动划片机
等离子化学气相沉积系统-PECVD
Pentagon Qlll