GL310 Cluster Gen2全自动纳米压印光刻生产线集成了从纳米压印晶圆预处理工艺，直至纳米压印光刻整套工艺步骤。标配天仁微纳CLIV(Contact Litho into Vacuum)压印技术，可实现200/300 mm晶圆及300x300mm/310x310 mm方形基底上全自动高精度(优于10 nm*)、高深宽比(优于10:1*)纳米结构复制量产。

设备采用模块化设计，用户可以根据工艺需求和生产节奏自由配置晶圆清洗、涂胶、烘烤、冷却、Plasma表面处理、AOI检测、Post Cure以及纳米压印的模块数量，达到**的生产效率。设备支持全自动工作模具复制、工作模具自动更换、自动预处理和自动对位、自动压印、自动脱模，全部工艺过程在密闭洁净环境中进行，以保证压印结果质量。GL310 Cluster Gen2纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导(包括斜齿光栅)、AR HUD、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域的大规模量产。 

• 主要功能

• 经过量产验证的全自动200/300 mm晶圆及300×300 mm方片、310×310 mm方片高精度、高深宽比结构纳米压印光刻生产线；

• CLIV技术，确保压印结构精度与结构填充完整性；

• Cassette to cassette自动上下片，光学巡边预对位；

• 设备内自动复制柔性复合工作模具，自动更换工作模具，适合连续生产；

• 全自动预处理流程，包括晶圆清洗、旋涂匀胶、烘烤、冷却、Plasma表面处理(选配)等；

• 全自动纳米压印光刻流程，包括自动对位、自动压印、自动曝光固化、自动脱模等；

• 全部工艺过程在密闭洁净环境中自动进行，以保证压印质量；

• 标配高功率紫外LED面光源(365 nm，光强>1000 mW/cm2)，水冷冷却，特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制，**支持各种商用纳米压印材料，可选配Post Cure功能；

• 适合DOE、AR/VR衍射光波导(包括斜齿光栅)、AR HUD、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域的大规模量产；

• 随机提供全套纳米压印工艺与材料，包括DOE、AR斜齿光栅、高密度高深宽比结构等工艺流程，帮助客户零门槛达到国际**的纳米压印水平。

相关参数