GL4 HE & GL8 HE & GL12 HE是天仁微纳新型全幅高精度紫外压印/热压印结合纳米压印光刻设备，集成了紫外压印和热压印功能，可以分别进行紫外压印和热压印工艺，也可同步原位实现紫外压印/热压印结合工艺。

该设备可实现**100mm/200mm/300mm（对应三种设备型号）晶圆面积上高精度（优于10nm *）、高深宽比（优于10：1 *）的纳米结构复制。该设备支持使用硬模具与软模具压印，设备内可复制工作模具，无需外置工作模具复制设备。工作模具材料选择范围广，具有精度高、寿命高的特点，可显著降低纳米压印工艺过程中模具使用成本。均匀气体施压可保证大面积全幅压印过程中结构精度与高深宽比结构的填充，同时保证全幅压印均匀性。GL4 HE & GL8 HE & GL12 HE纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED等应用领域的研发和量产。

主要功能

• 大面积、高精度、高深宽比，紫外压印/热压印结合纳米压印设备；

• 可分别实现紫外压印或者热压印工艺，也可同步原位实现紫外压印/热压印结合工艺；

• 均匀气体施压，压印压力可达50/80bar（对应不同设备型号），保证大面积均匀结构填充；

• 设备内可复制工作模具，降低大面积纳米压印模具使用成本；

• 标配高功率紫外LED面光源（365nm，光强>1000mW/cm²），特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制，**支持各种商用纳米压印材料；

• 标配设备内部洁净环境控制；

• 随机提供全套纳米压印工艺与材料，帮助客户零门槛达到国际**的纳米压印水平。

相关参数