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200/300 mm 全自动纳米压印光刻生产线
面议
天仁微纳
200/300 mm 全自动纳米压印光刻生产线
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GL300 Cluster是功能强大的全自动纳米压印光刻生产线,它集成了从纳米压印晶圆预处理工艺,直至纳米压印光刻全套工艺步骤。 标配天仁微纳CLIV(Contact Litho into Vacuum)压印技术,可实现200/300mm基底面积上全自动高精度(优于10nm*)、高深宽比(优于10:1*)纳米结构复制量产。设备采用模块化设计,用户可以根据工艺需求和生产节奏自由配置晶圆清洗、涂胶、烘烤、冷却、Plasma表面处理、AOI检测、Post Cure以及纳米压印的模块数量,达到**的生产效率。设备支持全自动工作模具复制、工作模具自动更换、自动预处理和自动对位、自动压印、自动脱模,全部工艺过程在密闭洁净环境中进行,以保证压印结果质量。GL300 Cluster纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导(包括斜齿光栅)、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列等应用领域的大规模量产。
300mm步进式纳米压印光刻/拼版设备
LED图形化蓝宝石衬底纳米压印光刻生产线
LED图形化蓝宝石衬底纳米压印光刻设备
Desktop纳米压印光刻设备
研发型多功能纳米压印光刻设备
200mm WLO工艺紫外纳米压印光刻设备 晶圆级光学器件加工(WLO)
200/300mm WLO工艺量产型紫外纳米压印光刻设备 晶圆级光学器件加工(WLO)
150mm&300mm 量产型高精度紫外纳米压印光刻设备
200mm 高精度紫外纳米压印光刻设备
200/300 mm 全自动纳米压印光刻生产线
100mm&200mm&300mm 紫外压印/热压印结合纳米压印光刻设备
2代线(370x470mm) 高精度紫外纳米压印光刻设备
TH-F120
BL-GHX-VK
A500
线性压电纳米位移台MF40-25A
InSight 软包电池透射X射线衍射仪
ParticleX TC
SuperSEM N10
SLS-LED-80B
Lyza 3000
在线浊度计
SCI300