GL P2 CLIV是天仁微纳新型面板级全幅高精度紫外纳米压印设备，标配天仁微纳CLIV（Contact Litho into Vacuum）压印技术，可在G2面板（370x470mm）上实现高精度（优于10nm*）、高深宽比（优于10：1*）纳米结构复制。 该设备支持自动复制柔性复合工作模具，工作模具具有精度高、寿命长等特点，可以显著降低大面积纳米压印工艺中模具使用成本。CLIV技术的应用保证了压印结构的精度与高深宽比结构的完整填充，同时保证了大面积结构压印均匀性。GL P2 CLIV纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列、裸眼3D等应用领域的研发和量产。

主要功能

• 2代线面板级高精度、高深宽比结构纳米压印设备；

• CLIV技术，确保压印结构精度与填充完整性；

• 设备内自动复制柔性复合工作模具，降低大面积纳米压印模具使用成本；

• 工作模具自动更换，适合连续生产；

• 自动压印、自动曝光固化、自动脱模，工艺过程无需人工干预；

• 标配高功率紫外LED线光源（365nm，光强>2000mW/cm2），水冷冷却，掩模区域曝光功能、面光源、特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制，**支持各种商用纳米压印材料与制程；

• 标配设备内部洁净环境与除静电装置；

• 随机提供全套纳米压印工艺与材料，包括DOE、AR斜齿光栅、高密度、高深宽比结构以及微透镜阵列、柱状透镜阵列等工艺流程，帮助客户零门槛达到国际**的纳米压印水平。