光学仪器及设备-200mm WLO工艺紫外纳米压印光刻设备晶圆级光学器件加工（WLO）-青岛天仁微纳科技有限责任公司-产品详情

200mm WLO工艺紫外纳米压印光刻设备晶圆级光学器件加工（WLO）

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天仁微纳

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200mm WLO工艺紫外纳米压印光刻设备晶圆级光学器件加工（WLO）

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兼容基底尺寸	2inch、100mm、150mm、200mm 特殊尺寸可以定制
支持基底材料	硅片、玻璃、石英、塑料、金属等
上下片方式	单片机械手自动上下
晶圆预对位	光学巡边预对
纳米压印技术	紫外纳米压印（UV-NIL），APC主动平行控制技术，适合大面积WLO、WLS等工艺
压印精度	优于10nm*
结构深宽比	优于10:1*
TTV控制	微米级精度（200mm晶圆）
紫外固化光源	紫外LED（365nm）面光源，光强>1000mW/cm2，水冷冷却（2000mW/cm2类型光源可选配）
设备内部环境控制	标配，外部环境Class 100，内部环境可达Class 10*
自动压印	支持
自动脱模	支持
自动工作模具复制	支持
模具基底对位功能	自动对位（选配）