GL6 R&D是一种专门为大学、科研院所和企业产品研发所设计，功能强大的多功能研发型纳米压印光刻设备。该设备可灵活集成包括高精度紫外纳米压印模块、晶圆级光学（Wafer Level Optics - WLO）压印模块以及热压印模块在内的不同配置，在一台设备上实现多种不同的纳米压印工艺。

高精度紫外纳米压印模块可在旋涂压印胶的晶圆上压印高精度（优于10nm *）、高深宽比（优于10：1 *）等微纳结构。WLO压印模块在精密点胶系统和主动模具基底平行控制（Automatic mold/substrate Parallel Control - APC）等技术加持下，可保证晶圆级微透镜等微光学器件压印精度、均匀性与良率，同时还可实现晶圆级堆叠（Wafer Level Stacking - WLS）工艺。热压印模块采用均匀气体施压方式，可实现大面积全幅压印过程中结构精度与高深宽比结构的填充，同时保证全幅压印均匀性。

该设备适合用作纳米压印光刻工艺开发，器件原型快速验证，纳米压印材料测试等研发。它沿用天仁微纳量产型纳米压印设备的工艺与材料体系，在GL6 R&D上开发的工艺可以无障碍转移到量产设备上进行生产。GL6 R&D纳米压印设备适用于DOE、AR/VR衍射光波导（包括斜齿光栅）、线光栅偏振、超透镜、生物芯片、LED、微透镜阵列（晶圆级光学加工、堆叠）、匀光片等应用领域。

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