GL 2200 R2R是天仁微纳新型全自动辊对辊（Roll to Roll）高精度紫外纳米压印光刻设备，可在1850mm~2200mm幅宽柔性基底上实现连续高速、高精度的微纳结构复制。设备包含高精度压印胶涂布工艺单元，可根据不同压印胶黏度范围灵活搭配不同涂布方式。

压印方式支持使用辊轮模具连续压印卷料柔性基底，同时还支持使用卷料柔性模具连续压印卷料柔性基底，两种压印方式可单一使用，亦可结合使用，方便灵活。GL 2200 R2R纳米压印光刻设备可用于连续生产适配于天仁微纳面板级辊对版压印设备（GL P6 R2P）所需的大幅面柔性复合工作模具，也适用于微透镜阵列、裸眼3D、AR/VR、LCD增亮膜以及电子纸等显示领域的研发和量产。

主要功能

• 1850mm~2200mm幅宽全自动辊对辊高精度紫外纳米压印光刻设备；

• 辊对辊（Roll to Roll）纳米压印方式，确保在柔性基底上实现连续高速、高精度的微纳结构复制；

• 高精度压印胶涂布工艺单元，可适配各种压印胶黏度范围；

• 支持使用辊轮模具连续压印卷料柔性基底；

• 同时还支持使用卷料柔性模具连续压印卷料柔性基底，实现表面压印结构翻转复制；

• 压印前分离保护膜，压印后覆膜保护功能；

• 压印后表面二次熟化工艺，可显著提高在后续压印制程中软膜使用寿命；

• 自动压印、自动曝光固化、自动脱模，工艺过程无需人工干预；

• 标配高功率紫外LED光源（365nm），水冷冷却、特殊功率以及特殊、混合波长光源可订制，**支持各种商用纳米压印材料与制程；

• 提供从设备客制化、厂务配套设计、材料选型与工艺流程联合开发、设备安装调试一直到驻厂陪同客户产品通线全周期保姆式服务，帮助客户零门槛达到国际**的纳米压印水平。