产品概述
　　ICP刻蚀是一种效率更高、功能更强大的先进加工技术，旨在实现高刻蚀率、高选择性和低损伤的刻蚀加工；由于等离子体密度更高，且保持在低压状态，因此还能具备出色的剖面刻蚀控制能力，可实现大深宽比和特殊形貌的刻蚀；
　　偏压电极提供了可单独控制的直流偏压，用以控制离子能量，因此可实现垂直于样片表面向下的高度各向异性刻蚀，从而获得符合特定工艺要求的出色结果。
产品优势：
　　1、真空度高，可以达到10^(-5)Pa；
　　2、刻蚀均匀性高，4英寸样品可达到±2%以内；
　　3、具有手动和自动两种功能；
　　4、具有远程控制功能；
　　5、售后服务好，保证客户高效使用设备。

技术参数