产品概述
　　脉冲激光沉积（PLD），是一种利用激光对物体进行轰击，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段，现代PLD系统通常配备反射高能电子衍射仪（RHEED）用于实时监控薄膜生长，并采用双腔体设计以提高实验效率。
产品优势：
　　1、有多种型号可选；
　　2、突破国际封锁，**可达到4～8英寸样品镀膜；
　　3、可实现高温生长，**1100℃；
　　4、可选配激光加热方式；
　　5、可选配RHEED等部件；
　　6、可实现高氧压镀膜；
　　7、样品可自动交接，稳定，可靠；
　　8、双室结构配置六工位样品库，提高工作效率3～6倍；
　　9、具有手动和自动两种功能；
　　10、具有远程控制功能；
　　11、售后服务好，保证客户高效使用设备；
　　12、可实现脉冲激光和磁控溅射组合镀膜。

技术参数