产品概述
　　本系统为磁控溅射多股卷对卷薄膜沉积设备。设备主要包括卷对卷系统、溅射系统、加热系统、真空获得及测量、气体控制及气路设计、水路系统及微机控制运行系统等组成。卷对卷系统由两个收放带室和镀膜室内的卷对卷系统组成，在真空状态下实现对带子的正向、反向绕卷，速度及走带长度的控制。
产品优势：
　　1、 型前开门结构，便于装样、维护；
　　2、可缠绕10股同时镀膜；
　　3、镀膜面积大，提高镀膜效率；
　　4、带子准直性性好，避免跑偏，翘边；
　　5、张力控制精度高，运行稳定；
　　6、溅射气压控制30秒以内完成；
　　7、具有手动和自动两种功能；
　　8、具有远程控制功能；
　　9、可将磁控溅射更改为电子束蒸发，热阻蒸发。

技术参数