粉体行业在线展览
PLDB-450
面议
百举捷
PLDB-450
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产品概述
脉冲激光沉积(Pulsed Laser Deposition,PLD),是一种利用激光对物体进行轰击,然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上,得到沉淀或者薄膜的一种手段,现代PLD系统通常配备反射高能电子衍射仪(RHEED)用于实时监控薄膜生长,并采用双腔体设计以提高实验效率。
技术参数
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
FT-391
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
ESC‑500
Gasboard-2060
等离子化学气相沉积系统-PECVD
自动划片机