产品概述
　　纳米团簇薄膜在吸波性能、抗辐照性能等多方面有着优异表现，是一种新型薄膜制备方法。与传统磁控溅射不同之处在于采用高气压（10～100Pa）溅射起辉，辉光区处于低温环境，这样溅射产物会形成纳米颗粒，增加二级差分抽气、加速喷嘴及20000V以上的样品偏压等方法将溅射产物镀制到样品上。
产品优势：
　　1、多功能：制备纳米团簇薄膜功能、制备常规薄膜功能、RHEED\LEED进行原位检测功能、真空AFM原位检测功能；
　　2、真空互联：样品在沉积室、进出样室、RHEED\LEED测试室和真空AFM室在线测试腔之间实现真空自动传递；
　　3、溅射气压控制30秒以内完成；
　　4、超高真空磁控靶，满足10-8Pa使用环境；
　　5、具有手动和自动两种功能；
　　6、具有远程控制功能。

技术参数