粉体行业在线展览
PLD-CKJ-400
面议
百举捷
PLD-CKJ-400
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产品概述
该设备具备磁控溅射和脉冲激光镀膜两种 功能,配置多个磁控靶和多个激光靶材,两种镀膜方法实现**互补。
产品优势:
1、超高真空磁控靶,满足 使用环境;
2、具有手动和自动两种功能;
3、具有远程控制功能;
4、靶的倾斜角程序控制调节,镀膜重复性好;
5、溅射气压控制30秒以内完成;
6、售后服务好,保证客户高效使用设备;
7、可实现脉冲激光和磁控溅射组合镀膜。
技术参数
热丝CVD金刚石膜沉积设备HF450
XRD-晶向定位
CVD 真空化学气相沉积设备
等离子体增强化学气相沉积系统CVD
FT-391
BTF-1200C-RTP-CVD
FM-W-PDS
ESC‑500
Gasboard-2060
等离子化学气相沉积系统-PECVD
自动划片机