产品概述
　　磁控溅射设备是一种多功能、高效率的镀膜设备。可以在陶瓷、玻璃、石英、硅片等基底材料上溅镀金属、非金属、氧化物、介质等材料的薄膜。溅镀膜层均匀、致密、附着力强，可应用到新型电子材料制备及光学、太阳能、半导体等领域。
产品优势：
　　1、超高真空磁控靶，满足10-8Pa使用环境；
　　2、样品自动交接，稳定、可靠，解决手动传输等各种容易发生的问题；
　　3、具有手动和自动两种功能；
　　4、具有远程控制功能；
　　5、靶的倾斜角程序控制调节，镀膜重复性好；
　　6、溅射气压控制30秒以内完成；
　　7、配置六工位样品库，提高工作效率3～6倍；
　　8、售后服务好，保证客户高效使用设备；
　　9、可实现脉冲激光和磁控溅射组合镀膜。

技术参数